第一步:玻璃基板准备
首先要选对玻璃。需挑选特定成分、厚度和表面质量的超薄玻璃 —— 这是后续工艺的基础,直接关系到通孔的精度和稳定性。
第二步:激光打孔 / 刻蚀
接着是造孔。常用飞秒激光打孔,或湿法 / 干法刻蚀技术,在玻璃上形成微小通孔。这一步要保证孔的大小均匀、位置精准,否则会影响后续的电气连接。
第三步:绝缘与种子层沉积
孔造好后,得先在孔壁和内表面沉积绝缘层,确保电气隔离。之后,再沉积金属种子层,为下一步的电镀填充打基础。
第四步:电镀填充
通过电镀,用铜等金属将通孔完全填满。这一步要保证填充饱满、无空隙,否则会导致导电性能下降。
第五步:表面平坦化(CMP)
填充完成后,玻璃表面会有多余金属。这时用化学机械抛光(CMP)将其移除,让表面变得平整,为后续布线做准备。
第六步:再布线层(RDL)制作
在平坦的玻璃表面,先沉积绝缘层,再制作电路图形、电镀布线,形成所需的互连电路。这一步决定了芯片间信号传输的路径。
第七步:测试与切割
最后,对完成互连的晶圆进行测试,确认性能达标后,切割成单个芯片(Chiplets),用于后续的封装集成。
这七步环环相扣,任何一步出问题,都可能影响 TGV 的良率和可靠性。
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